Когда то я держал бумаги элемента у себя, в надежде, что микроэлектроника все таки возродится. Но реальность, к сожалению, вносит свои коррективы. Я вышел давно, хоть и с минусом, но не таким, каким он мог бы быть.
А теперь мои мысли:
Это наверное единственная компания на рынке, по которой я могу дать оценку хотя бы с точки зрения человека, работающего в смежной области. Так вот, заливают тут скорее не только из-за трудностей бизнеса, но и из-за технологий. Пожалуй, опущу часть про бизнес и перейду к технологии.
Сейчас перед Российским сегментом микроэлектроники стоит одна огромная технологическая задача: производство своего оборудования для нужд отрасли. И задача это, мягко говоря, обалдеть какая тяжелая. Из самого очевидного - производство своих литографов. А кто-нибудь знает, из чего состоит литограф? Ну вот небольшой экскурс:
— Источник излучения (лазер). В лазерах ничего сложного нет, пока ты находишься в области длин волн выше 100 нм. Используй эксимерные лазеры, технология которых была хорошо отработана еще в Союзе. А вот чтобы идти к заветным 2-м нанометрам, нужно извращаться. В ASML стреляют мощным ИК лазером в каплю олова, та ионизируется и излучает на 13.7 нм, если мне не изменяет память. Вроде звучит просто, но на деле источник этот разрабатывался что-то порядка 12 лет. Можно не стрелять в каплю, а стрелять в ксенон, принцип примерно такой же. Есть вариант с лазером на свободных электронах, но на это нужен синхротрон, что интересно, но трудно и дорого
— Система совмещения и экспозиции: тут в игру вступает прецизионная механика. Если совместить пластину и маску в масштабе микрометров (а некоторые умудряются сделать это и на 100 нм), впринципе задача выполнимая, то вот совместить рисунки с точностью до 1-2 нм - искусство. Тут могут использоваться например пьезоэлектрические сканеры, в целом технология не сказать, что сложная, в атомно-силовой микроскопии применяется повсеместно. Но это работает для небольших объектов, а пластины все таки большие (и тяжелые для таких сканеров, что тоже добавляет проблем).
— Система экспонирования фотошаблона и «доставки» изображения к пластине: если для обычной литографии достаточно применять линзы или зеркала, то с мягким рентгеном такое не прокатит. Тут ученые и инженеры применяют зеркала с интерференционными покрытиями из ограниченного списка металлов (я слышал только про молибден и бериллий). И создать такие покрытия, да еще и на параболической поверхности тоже искусство, они должны быть атомарно плоскими, чтобы изображение не исказилось при переносе из-за аберраций. А еще такие зеркала должны подстраиваться с нанометровой точностью (опять привет микромеханика).
И это только часть. Сюда включаем то, что экспонирование должно проходить в сверхвысоком вакууме, который создают далеко не обычные насосы. Сюда включаем системы управления и автоматизации всей этой прелести, системы коррекции ошибок, юстировку оптических элементов, различного рода детекторы, и не дай бог туда попадёт пыль…
И это только литография. А есть еще: плазмохимическое травление, атомно-слоевое осаждение, молекулярно-лучевая эпитаксия, системы контроля экспонированного изображения (электронные микроскопы), профилометры, и это даже еще не все
А теперь посмотрите и представьте какой объем технологий нам необходимо освоить, чтобы хотя бы попытаться конкурировать с мировыми производителями. Половина из этого у нас разработана в качестве прототипа, что-то только обосновано теоретически. А производить надо сейчас, и к сожалению, на иностранном оборудовании, которое еще надо привезти. Чтобы поднять микроэлектронику, нужны время и деньги. Много времени и денег. И Элемент вообще молодцы, что взялись за такое дело, тут только респект. Но такой огромный стек технологий разработать почти с нуля в короткие сроки физически невозможно. И инвесторы это понимают, понимают, что прибыль получат, в лучшем случае, лет через 10-15. И то не факт…
Но я все же верю в наших спецов, они могут творить невозможное💪