$ELMT Д.т.н. Николай Шелепин, руководитель направления микроэлектроники Института нанотехнологий РАН, оценнивая государственную "Стратегию развития электронной промышленности до 2030 года", однозначно сказал, что задачи в части достижения уровня 28 нм в 2027 г. и 14 нм в 2030 г. при условии невозможности из-за санкций закупок соотвествующего оборудования нереальны. Ключевое оборудование для производства передовых микросхем изготавливается ограниченным количеством компаний: одна в Голландии, три в США, одна в Японии. И все они относятся к недруженственным странам. Китайские микроэлектронные компании, освоившие уровени 28 нм и меньше, осуществляют производство на импортном оборудовании. В одном только 2023 году Китай импортировал такого оборудования на 40 млрд.долларов. И это не считая собственно ивестиций в создание чипов, которые в разы превосходят эту сумму. Есть данные, что Китай уже в середине 2025 года представит процессор на 7-нм техпроцессе. Наши же объёмные госинвестиции в 2024 году должны были составить 2 трлн. рублей. При отсутствии возможности закупок оборудования. Если 28-нм технология ещё может изготавливаться с помощью литографов, работающих с длиной волны 193 нм, то для 16 нм нужны EUV-литографы (с эстремальным ультрафиолетом). Но создание EUV-литографов у нас также не актуально, так как у нас отсутствует всё остальное оборудование для уровня технологий 16-14 нм и ниже. --- График "Элемента" как раз показывет нереальность планов Стратегии, созданной в 2020 году, к 2027 году достичь 28 нм. Если бы не было СВО и ещё чего-нибудь, то тогда уже точно...